-
Керамическая полупроводниковая подложка Si3N4 высокой чистоты для силовых устройств и ИСКерамическая подложка Si3N4, полупроводниковый материал нового поколения, изготовленный из порошка высокой чистоты, широко используется в силовых компонентах, инверторах, модулях и интегральных схемах для нескольких устройств.